Teknolojia ya uwekaji wa mvuke (Uwekaji wa Mvuke wa Kimwili, PVD) inarejelea matumizi ya mbinu za kimaumbile chini ya hali ya utupu ili kuyeyusha uso wa chanzo cha nyenzo (imara au kioevu) hadi atomi za gesi au molekuli, au kuaini kwa sehemu kuwa ioni, na kupita kwa kiwango cha chini. - gesi ya shinikizo (au plasma). Mchakato, teknolojia ya kuweka filamu nyembamba yenye kazi maalum juu ya uso wa substrate, na uwekaji wa mvuke halisi ni mojawapo ya teknolojia kuu za matibabu ya uso. Teknolojia ya mipako ya PVD (utuaji wa mvuke wa kimwili) imegawanywa katika makundi matatu: mipako ya uvukizi wa utupu, mipako ya sputtering ya utupu na mipako ya ioni ya utupu.
Bidhaa zetu hutumiwa hasa katika uvukizi wa mafuta na mipako ya sputtering. Bidhaa zinazotumiwa katika uwekaji wa mvuke ni pamoja na waya wa tungsten, boti za tungsten, boti za molybdenum, na boti za tantalum bidhaa zinazotumiwa katika mipako ya boriti ya elektroni ni waya wa tungsten wa cathode, crucible ya shaba, tungsten crucible, na sehemu za usindikaji za molybdenum Bidhaa zinazotumiwa katika mipako ya sputtering ni pamoja na titanium. shabaha, shabaha za chromium, na shabaha za titan-alumini.
